UV光解凈化法：UV光解利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，游離氧帶的正負電子會因為正負電子不平衡于氧分子進行相結合，結合后產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，這時候的具有很強氧化性的臭氧就會與惡臭氣體以及有機廢氣進行協同光解氧化作用，后將有機廢氣降解成簡單的水、氧化碳以及低分子化合物等。

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光伏工業廢氣主要含有有機廢氣、酸堿廢氣以及特殊廢氣，廢氣的產生主要來源于電池片制絨、硅切片清洗、切片階段、去PSG階段、硅切片廢線切割階段、燒結階段、電池片絲網印刷、化學氣相沉積工序使用的硅烷、氫氣和氨氣殘余時產生的工業廢氣。

如想另一種消除法以及兩者相結合的廢氣處理方案可以到創清環保廢氣處理進行相關的資料查詢或者是直接留言于廢氣處理工程師，光伏工業主要分為電池片生產、硅片生產、硅料提純等，而電池片的生產其污染性比較強，涉及到的污染物也比較多，主要包括了HCL、VoCs、NH3HF等。

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隨著電子產品的應用越來越廣泛，電子設備的需求量就會在不斷的增長中，在半導體芯片生產的過程中不但會產生大量的工業污水而且還會產生具有污染性的工業廢氣，面對工廠產生的這部分工業廢氣應如何處理，本文了解關于半導體芯片生產工業的廢氣處理設備。

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半導體芯片加工廠的工業廢氣主要包含了硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣、硫酸霧等的酸/堿廢氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷總烴等的有機廢氣，具有揮發性的VOCs以及酸堿廢氣主要來源于對芯片的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中產生的，這部分的廢氣濃度小且排放量大。

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隨著工業的發展越來越迅速，空氣污染的情況也越來越嚴重，目前市場上常用的廢氣處理裝置有離子除臭以及光氧除臭，本文整理一份關于離子除臭和光氧除臭之間的區別，兩者之間哪一個，以上是對于離子除臭和光氧催化設備之間的區別整理，兩者之間沒有所謂哪一個的好，選用哪一設備主要還需根據用戶需要處理的是哪一工業領域的廢氣。